Journal of Micro-Nanopatterning Materials and Metrology-JM3
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J MICRO-NANOPATTERN
JCR Q3中科院 3 区 · 物理与天体物理SCIE
最新影响因子
2.3
5年影响因子
2.3
JCR分区
Q3（68/129）
全球排名
8195
ISSN
1932-5150
eISSN
2708-8340
出版商
SPIE-SOC PHOTO-OPTICAL INSTRUMENTATION ENGINEERS
语言
English
JCI
0.38
总引用
608
年发文量
79
数据年份
2025
影响因子
2.3
最新影响因子（2025）
2.3
5年影响因子
JCR Q3 分区
中科院小类 4 区 · 工程：电子与电气
中科院小类 4 区 · 工程：电子与电气
期刊详细信息
期刊名称Journal of Micro-Nanopatterning Materials and Metrology-JM3
缩写J MICRO-NANOPATTERN
ISSN1932-5150
eISSN2708-8340
出版商SPIE-SOC PHOTO-OPTICAL INSTRUMENTATION ENGINEERS
语言English
数据库收录Web of Science(SCIE); Scopus
JCR学科ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC(SCIE):Q3 221/369 | MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY(SCIE):Q3 336/472 | NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY(SCIE):Q4 116/148 | OPTICS(SCIE):Q3 68/129
JCR分区Q3
JCR排名68/129
全球排名8195
JCI0.38
中科院大类3 区 · 物理与天体物理
中科院小类4 区 · 工程：电子与电气
是否Top期刊否
数据年份2025
