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CURRENT APPLIED PHYSICS

CURRENT APPLIED PHYSICS

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CURR APPL PHYS

JCR Q3中科院 3 区 · 物理与天体物理SCIE
最新影响因子
2.8
5年影响因子
2.5
JCR分区
Q3（103/191）
全球排名
6439
ISSN
1567-1739
eISSN
1878-1675
出版商
ELSEVIER
语言
English
JCI
0.5
总引用
7,805
年发文量
173
数据年份
2025

影响因子

2.8
最新影响因子（2025）
2.5
5年影响因子
JCR Q3 分区
中科院小类 4 区 · 材料科学：综合

期刊详细信息

期刊名称CURRENT APPLIED PHYSICS
缩写CURR APPL PHYS
ISSN1567-1739
eISSN1878-1675
出版商ELSEVIER
语言English
数据库收录Web of Science(SCIE); Scopus
JCR学科MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY(SCIE):Q3 298/472 | PHYSICS, APPLIED(SCIE):Q3 103/191
JCR分区Q3
JCR排名103/191
全球排名6439
JCI0.5
中科院大类3 区 · 物理与天体物理
中科院小类4 区 · 材料科学：综合
是否Top期刊否
数据年份2025

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