INTERNATIONAL JOURNAL OF APPLIED ELECTROMAGNETICS AND MECHANICS
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INT J APPL ELECTROM
JCR Q4中科院 4 区 · 工程技术SCIE
最新影响因子
0.7
5年影响因子
0.7
JCR分区
Q4（155/172）
全球排名
16241
ISSN
1383-5416
eISSN
1875-8800
出版商
IOS PRESS
语言
English
JCI
0.14
总引用
1,285
年发文量
124
数据年份
2025
影响因子
0.7
最新影响因子（2025）
0.7
5年影响因子
JCR Q4 分区
中科院小类 4 区 · 工程：电子与电气
中科院小类 4 区 · 工程：电子与电气
期刊详细信息
期刊名称INTERNATIONAL JOURNAL OF APPLIED ELECTROMAGNETICS AND MECHANICS
缩写INT J APPL ELECTROM
ISSN1383-5416
eISSN1875-8800
出版商IOS PRESS
语言English
数据库收录Web of Science(SCIE); Scopus
JCR学科ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC(SCIE):Q4 347/369 | MECHANICS(SCIE):Q4 155/172 | PHYSICS, APPLIED(SCIE):Q4 183/191
JCR分区Q4
JCR排名155/172
全球排名16241
JCI0.14
中科院大类4 区 · 工程技术
中科院小类4 区 · 工程：电子与电气
是否Top期刊否
数据年份2025
