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PLASMA CHEMISTRY AND PLASMA PROCESSING

PLASMA CHEMISTRY AND PLASMA PROCESSING

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PLASMA CHEM PLASMA P

JCR Q1中科院 3 区 · 物理与天体物理SCIE
最新影响因子
3.5
5年影响因子
3.4
JCR分区
Q1（7/43）
全球排名
4673
ISSN
0272-4324
eISSN
1572-8986
出版商
SPRINGER
语言
English
JCI
0.62
总引用
4,733
年发文量
74
数据年份
2025

影响因子

3.5
最新影响因子（2025）
3.4
5年影响因子
JCR Q1 分区
中科院小类 3 区 · 工程：化工

期刊详细信息

期刊名称PLASMA CHEMISTRY AND PLASMA PROCESSING
缩写PLASMA CHEM PLASMA P
ISSN0272-4324
eISSN1572-8986
出版商SPRINGER
语言English
数据库收录Web of Science(SCIE); Scopus
JCR学科ENGINEERING, CHEMICAL(SCIE):Q2 90/183 | PHYSICS, APPLIED(SCIE):Q2 75/191 | PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS(SCIE):Q1 7/43
JCR分区Q1
JCR排名7/43
全球排名4673
JCI0.62
中科院大类3 区 · 物理与天体物理
中科院小类3 区 · 工程：化工
是否Top期刊否
数据年份2025

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