JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS
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JPN J APPL PHYS
JCR Q4中科院 4 区 · 物理与天体物理SCIE
最新影响因子
1.7
5年影响因子
1.4
JCR分区
Q4(145/191)
全球排名
10845
ISSN
0021-4922
eISSN
1347-4065
出版商
IOP Publishing Ltd
语言
English
JCI
0.3
总引用
18,443
年发文量
810
数据年份
2025
影响因子
1.7
最新影响因子(2025)
1.4
5年影响因子
JCR Q4 分区
中科院小类 4 区 · 物理:应用
中科院小类 4 区 · 物理:应用
期刊详细信息
期刊名称JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS
缩写JPN J APPL PHYS
ISSN0021-4922
eISSN1347-4065
出版商IOP Publishing Ltd
语言English
数据库收录Web of Science(SCIE); Scopus
JCR学科PHYSICS, APPLIED(SCIE):Q4 145/191
JCR分区Q4
JCR排名145/191
全球排名10845
JCI0.3
中科院大类4 区 · 物理与天体物理
中科院小类4 区 · 物理:应用
是否Top期刊否
数据年份2025
